SEMI-e深圳国际半导体展暨集成电路产业创新展，将于9月10-12日在深圳国际会展中心(宝安新馆)盛大启幕！诚锋科技将携前沿解决方案精彩亮相，诚邀您莅临 13号馆 13F113 展位，共话芯未来，探索创新机遇！
产品介绍
纳米图形晶圆缺陷检测设备
CFW920是一款瑕疵灵敏度达200纳米的图形晶圆检测设备，可应用于高端硅光芯片（800G/1.6T）的缺陷检测/先进封装2D缺陷检测领域，助力客户发现工艺研发阶段和产能提升阶段影响良率的关键图形缺陷，提升良率。CFW920拥有行业独创的双载台设计，可大幅提升吞吐率。
光模块产线AOI设备系列
光模块产线AOI设备CF91X系列可应用于400G/800G/1.6T光模块制造，它包含高达1um瑕疵灵敏度的CF916专用于TIA/PD/PIC/COC芯片全检测，CF915专用于光模块的金线检测，CF917/CF912分别应用于PCBA元器件和COB基板的光学检测。
Reticle多用途缺陷检测设备
CFY210 是应用在 MaskShop 的多用途AOI设备，诚锋的光罩检测技术可帮助光罩制造商识别光罩particle缺陷和图形缺陷。CFY210 支持多种检测模式（Blank检测/MBB particle检测/ADI&AEI particle检测/图形检测），支持SMIF自动上下料，既可以满足检测稳定性和产能需求，也可以满足超高洁净度要求，从而帮助客户提升良率。
最高瑕疵灵敏度：0.2um
检测效率：10分钟/片
图形晶圆缺陷检测设备
CFW820是一款用于FAB产线缺陷监控的光学检测设备，可对标国外竞品Cxxx的Eagle-i系列机台，可应用在ADI/AEI/CMP/OQC等多个工艺站，能够帮助客户快速筛选产线上影响产品质量的典型图形缺陷和表面缺陷，确保各种工艺稳定运行。CFW820拥有超高的wafer传输兼容性，可以兼容Thin/Taiko/Standard wafer，配置多种光学放大倍率，具备双通道检测能力，能够兼顾灵敏度和吞吐率，搭配灵活易用的recipe 管理功能，助力客户产线制程良率提升。
图形晶圆缺陷检测设备
CFW821是一款高规格的FAB前道图形检测设备，可对标国外竞品Kxx的89xx机台，它配备了双TDI传感器，可实现明暗场同步成像，一次扫描可同时采集检测明场和暗场的图像，可扫描检出更多的瑕疵，它适用于FAB前道的ADI/AEI/CMP等多个工艺站，能够帮助客户快速筛选产线上影响产品质量的典型图形缺陷和表面缺陷，确保各种工艺稳定运行。可满足高吞吐率和瑕疵高检出率的应用场合。
