近日，荷兰半导体设备制造商ASML宣布，其新一代高数值孔径EUV光刻机EXE:5200已正式出货，标志着该技术已准备好投入批量生产。
根据最新报道，美国与欧盟委员会主席签署的贸易协定中，对进入美国的欧洲制造商品征收15%的关税，但半导体制造设备等特定商品在零关税安排下可享受豁免。这意味着ASML的设备在美国市场不会因关税上涨而增加成本。报告指出，若对ASML设备征收15%的关税，每台DUV系统的成本将增加约1300万美元，每台EUV设备的成本将增加高达4000万美元，这将大幅增加英特尔、三星和台积电等企业的成本，削弱美国半导体制造业的竞争力。
ASML的首台高数值孔径EUV客户已确认为英特尔，计划用于其14A节点。相比之下，台积电可能会推迟采用该技术，预计在其A14工艺节点上放弃使用该设备，而三星尚未设定采用时间表。ASML的EXE:5200系统专为大批量生产设计，生产率超过每小时200个晶圆，对于实现更高分辨率（<8 nm）至关重要。
ASML一直在加速EUV技术导入量产，扩大生产规模，预计到2025年-2026年，年产EUV光刻机将达到90台，DUV光刻机600台。2024年主力出货的TWINSCAN NXE: 3800E套刻精度为1.1nm，曝光速度30mJ/cm²，每小时曝光195片晶圆，年产量为170万片。预计2025年出货的NXE:4000F将以更高速度提供更大产能。
