近日获悉，位于常州金坛区的江苏晶久微电子材料有限公司（简称“晶久微化”）成功完成一轮产学研融资和一次天使轮融资。本轮融资分别来自一位麻省理工学院博士后（现任浙江大学教授），和一家知名机构上海拙朴投资。本次融资将全部用于晶久微化的日常运营，包括产品研发、产能扩容及市场运营。
晶久微化-公司简介
江苏晶久微电子材料有限公司，成立于2016年2月，坐落于江苏常州金坛新材料产业园，是国内领先的高端电子化学品生产企业。公司专注于半导体（TR、IC）、FPD平板显示（TFT-LCD、CF、TP、OLED、PDP等）、LED、硅片、锂电池、光磁等领域的专用湿电子化学品——超净高纯试剂及光刻胶配套试剂的研发与生产。公司占地面积近3万平方米，拥有千级净化生产区3000平方米、百级净化生产区1000平方米，并配备了全套满足SEMI标准G4级的超净生产设备与检测仪器。晶久微化主要产品包括：
一、通用型湿电子化学品类
1、酸碱类：过氧化氢、硫酸、盐酸、硝酸、发烟硝酸、磷酸、氢氟酸、冰乙酸、氢氧化铵、氟化铵、氢氧化钾溶液、氢氧化钠溶液。
2、溶剂类：甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、醋酸丁酯、甲苯、二甲苯、三氯乙烯、N- 甲基吡咯烷酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、环己烷。
二、功能型湿电子化学品类
1、腐刻液类：氟化铵腐蚀液、铝腐蚀液、铬腐蚀液、铜腐蚀液、ITO腐蚀液、镍银腐蚀液、金腐蚀液、硅腐蚀液（SPIN）、钛腐蚀液、钛镍银腐蚀液、混合酸 3F、混合酸 4F。
2、其他化学品类：正胶稀释剂、负胶漂洗液、剥离漂洗液、正胶剥离液、负胶剥离液、正胶显影液、负胶显影液、边胶清洗剂、水系剥离液、溶剂系剥离液
产品应用：
1、半导体领域：应用于硅片清洗、光刻、蚀刻等关键工艺。
2、平板显示领域：适用于TFT-LCD、OLED等面板制造过程中的清洗、蚀刻等环节。
3、LED及其他领域：为LED芯片制造、硅片抛光等提供高纯度试剂支持。
