据报道，韩国掩模制造商S&S Tech的极紫外（EUV）空白掩模已接近获得三星批准使用的最后阶段。
三星的目标是年内在韩国国内采购EUV空白掩模版。消息人士称，该公司正在实际工艺环境中使用S&S Tech的EUV空白掩模版样品，并检查其中是否存在缺陷。
最终的质量评估预计将于下半年进行。
如果S&S Tech的空白掩模版获得批准，这将是韩国公司第二次成功实现EUV所用材料的商业化生产。第一家是成功生产EUV所用光刻胶（PR）的东进世美肯（Dongjin Semichem）。
消息人士称，三星半导体光刻团队的目标是通过增加S&S Tech作为供应商来减少对日本豪雅（Hoya）的依赖，确保稳定的供应并降低成本。
三星目前使用的EUV空白掩模版大多从这家日本公司采购。然而，由于日本地震等各种因素，这家韩国科技巨头多次难以及时采购掩模版。为了缓解这些担忧，豪雅在新加坡建了一家工厂。
据悉，S&S Tech于2024年12月向日本Lasertec公司订购了EUV掩模检测设备，每台售价417亿韩元。然而，Lasertec公司订单积压。三星随后介入，要求Lasertec公司接手S&S Tech的订单。预计该设备将于10月运抵S&S Tech位于龙仁的新工厂。
EUV空白掩模版每片成本高达数万美元。三星认为，在国内采购部分EUV掩模版将节省数千万美元，并缩短交货时间。（校对/赵月）
