图源：思锐智能
6月27日，思锐智能半导体先进装备研发制造中心落成投产仪式在青岛自贸片区隆重举行，该中心的投产填补了青岛在半导体核心装备领域的空白。其中，中国半导体产业领军人物张汝京，欧洲科学院院士、北京超弦存储器研究院执行院长赵超，思锐智能董事长聂翔等出席活动，见证这一历史性时刻。
该项目从建设到投产仅用一年时间，该中心的正式运营，标志着思锐智能完成了从技术研发到规模化量产的完整产业能力建设，使公司具备了满足国内外客户多样化需求的产业化保障能力。
作为思锐智能全新产业化中心，思锐智能半导体先进装备研发制造中心由思锐智能与青岛城投集团联合打造，是2024年度和2025年度的山东省重大项目及青岛市重点项目，该项目总占地约95亩，总建筑面积约8.9万平方米，计划投资超12亿元，聚焦原子层沉积镀膜（ALD）和离子注入机（IMP）两大核心装备的研发与量产。
据介绍，思锐智能半导体先进装备研发制造中心可年产上百台核心设备，还是构建“技术-制造-生态”闭环的关键节点。依托该中心，思锐智能将加速突破ALD、IMP等关键技术瓶颈，深化在集成电路（IC）、功率化合物等领域的纵深拓展。
七年来，思锐智能持续整合海内外资源，建立了国产化ALD技术研发中心，不断实现从设计到量产的突破。同时，公司积极进军关键“卡脖子”离子注入业务，重资投入持续研发攻关，从最初高能离子注入机填补国内空白，到如今全系列离子注入产品服务客户，已成功夯实思锐智能“ALD+IMP”双主线的发展根基。思锐智能正朝着“成为全球半导体设备技术的重要参与者、中国半导体设备细分领域的领军企业”的目标稳步迈进。
今年2月，中国证监会披露了关于思锐智能首次公开发行股票并上市辅导备案报告，其上市辅导机构为国泰君安证券。
公开资料显示，思锐智能成立于2018年，由中国中车集团及旗下基金通过深度“产融结合”的方式联合发起设立，注册资本11亿元。主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域，是目前国内唯一一家同时提供离子注入机和原子层沉积设备并实现关键技术自主突破的高科技企业。
目前，思锐智能及子公司BENEQ在全球拥有近480项专利，是中国国内极少拥有全球客户拓展能力的中高端半导体装备生产制造商，业务范围覆盖全球40个国家及地区，累计超过500个全球客户。（校对/李梅）
