1.三星平泽P4进展:PH1变身NAND/DRAM混合工厂;
2.跳过3nm,传谷歌Pixel 11将搭载台积电2nm版Tensor G6芯片;
3.台积电海外子公司拟发行100亿美元股票以应对外汇波动;
4.LG Innotek开发全球首个移动半导体基板用“铜柱”技术,尺寸缩小20%;
5.日月光:全球都会受到关税影响 但产业会找到出路;
6.英诺赛科顶部冷却En-FCLGA封装产品将彻底改变太阳能和储能应用
1.三星平泽P4进展:PH1变身NAND/DRAM混合工厂
据媒体报道,三星电子平泽第四园区工厂(P4)第二期(PH2)和第四期(PH4)的投资步伐正在加快。预计总投资约7万亿韩元的外部建设将于今年下半年正式启动。PH1最初设计为NAND闪存工厂,现已转变为同时生产NAND和10纳米级第四代(1a)DRAM的混合工厂,目前设备安装已进入收尾阶段。
三星电子内部仍在讨论是将PH2用作DRAM生产基地,还是将其改造成混合晶圆厂。
去年有消息称,平泽P4是一个由四个阶段组成的最尖端半导体生产工厂,包括代工和存储生产线。三星原本计划首先建设存储生产线PH1,然后是代工生产线PH2,接着是存储生产线PH3,最后是代工生产线PH4,以完成P4的建设。
2.跳过3nm,传谷歌Pixel 11将搭载台积电2nm版Tensor G6芯片
据报道,谷歌Pixel 10系列将成为谷歌首款更换芯片代工合作伙伴的旗舰智能手机系列。据称,为该系列提供支持的Tensor G5芯片将采用台积电第二代3nm工艺(也称为"N3E")进行量产。
三星可能不再是谷歌未来芯片制造的首选,鉴于谷歌高层最近访问了中国台湾,并与全球最大的晶圆代工企业台积电签订为期五年的合作协议。这一协议预计会包括Pixel 11的Tensor G6芯片,值得注意的是,谷歌计划在2026年与竞争对手保持技术同步,因为据传其系统级芯片(SoC)将采用台积电的2nm制程技术。
台积电自4月1日起开放2nm订单,但尚未透露哪些客户将选用这项技术。业界推测,苹果可能会成为首个获得2nm晶圆的公司,因为它需要采用大量先进光刻技术的芯片,以维持在竞争中的领先地位。
谷歌决定跳过台积电第三代3nm工艺,直接采用2nm节点来生产Pixel 11的Tensor G6芯片。然而,这一决策对谷歌而言可能代价不菲,鉴于其智能手机的出货量远逊于苹果和三星等市场巨头,而且采用台积电的2nm工艺生产Tensor G6芯片,意味着高昂的生产成本。不过,谷歌有机会与三星重建业务伙伴关系,从而利用三星的2nm GAA工艺技术缩减成本。
尽管如此,考虑到台积电作为代工合作伙伴对众多客户的可靠性,谷歌可能会承担额外的晶圆成本。谷歌未来可能重新评估成本结构,或许最终选择更经济的台积电3nm N3P节点来生产Tensor G6,从而节省数百万美元开支。
3.台积电海外子公司拟发行100亿美元股票以应对外汇波动
据媒体报道,台积电海外子公司计划发行价值 100 亿美元的新股,以加强其外汇套期保值业务。
Robeco驻新加坡的亚洲主权债务策略师表示:“总体而言,外汇市场的波动加剧意味着银行可能会调整其保证金要求。发行新股并立即注入大量现金,或许能帮助企业应对现有及新套期保值业务的保证金要求。”
6月10日,台积电公布的财报显示,该公司5月营收3205.16亿元新台币,月减8.3%,年增39.6%,创历年同期新高。
4.LG Innotek开发全球首个移动半导体基板用“铜柱”技术,尺寸缩小20%
6月25日,LG Innotek宣布已成功开发全球首个面向移动半导体基板的铜柱(Cu-post)技术,并实现量产应用。
随着智能手机轻薄化竞争加剧,市场对既提升移动半导体基板性能又压缩尺寸的技术需求激增。LG Innotek预判这一趋势,自2021年就前瞻性开发了这款次世代移动半导体基板技术。
与传统通过焊球直接连接半导体基板与主板的方式不同,该技术采用铜柱结构缩小焊球间距与体积。此举不仅能实现半导体基板小型化,还可在同等面积上排布更多电路,电路密度提升有效助力智能机实现“瘦身”与高性能并行。应用此项技术后,半导体基板在性能不变前提下尺寸最多可缩减20%。
该技术不仅适配轻薄化设计,更优化了人工智能(AI)计算等需高效处理复杂海量电信号的高端功能。其散热性能同样提升,铜柱采用的铜材料导热系数达铅的7倍以上,可更快导出半导体封装内部热量。
铜柱技术有望巩固LG Innotek在射频系统级封装(RF-SiP)基板领域的全球霸主地位。LG Innotek CEO Moon Hyuk-soo表示:“这项技术并非简单的部件供应,而是基于深度思考为客户成功提供的支持” ,并强调“将通过创新产品改变基板行业范式,持续创造差异化客户价值” 。
5.日月光:全球都会受到关税影响 但产业会找到出路
6月25日,日月光集团CEO在回应关税议题时表示,全球都会受到关税影响,依产品类别、产业位置不同而有所差异,但中国台湾处于制高点,相信不管外部环境怎么变化,产业都会找出最适合自己的出路。
吴田玉表示,受美国发动关税战影响,尽管国际半导体产业协会(SEMI)尚未修正原预期2030年全球半导体产值将突破1万亿美元的预估值,但业界已保守预估要延至2032至2033年才会达到达1万亿美元,不过这也不脱未来十年,全球半导体产值突破1万亿美元的长线目标。
吴田玉强调,面对特朗普政府多次点名中国台湾,要拿中国台湾芯片开刀,课征重税,以特朗普政府的个性,中国台湾恐怕无法获得零关税豁免,但应该也不会如特朗普所言会达到100%那么高的税率。在无法避免下,他相信每家公司都因产业位置不同而有所差异,但相信不管外部环境怎么变化,产业都会找出最适合自己的出路。
6.英诺赛科顶部冷却En-FCLGA封装产品将彻底改变太阳能和储能应用
100V 新品发布
全球领先的氮化镓 (GaN) 供应商英诺赛科 (Innoscience) 宣布推出两款基于 100V 双冷却 En-FCLGA 封装的新产品:INN100EA050DAD 和 INN100EA070DAD,可实现太阳能微型逆变器、储能系统 (ESS)(直流输入)和最大功率点跟踪 (MPPT) 优化器的最高效率。
两款新品 INN100EA050DAD 和 INN100EA070DAD 使用与之前发布的产品INN100EA035A相同的封装(双冷En-FCLGA 3.3X3.3),这是业界首款硅场效应晶体管 (SFET) 的点对点 (P2P) 替代品,可立即提升效率并提高功率密度,在36V 至 80V 的输入条件下,系统功率损耗可降低 50% 以上。
英诺赛科领先的 Dual-Cool En-FCLGA 封装与传统的单冷却封装相比,导热率高出 65%,从而显著提高系统热性能、降低工作温度、提高效率并实现更高的功率密度(降低 BOM 成本)。
产品亮点
先进的100V E-mode GaN技术
极低的栅极电荷QG,typ @ VDS
超低的导通电阻RDS(on)
占板面积非常小
100V Dual-cool En-FCLGA
En-FCLGA3.3X3.3
Rdson_Max 5~7mohm
支持双面散热,可直接P2P Source down MOS
性能优势
超低导通电阻,帮助能量损耗大幅降低
超低驱动和开关损耗,减少了系统的能量损耗,提高系统的响应速度
紧凑尺寸设计,在空间有限的应用场景中优势明显
双面散热,提高散热效率,有效提升系统的可靠性和稳定性
应用优势
PCB Layout友好,垂直电路路径设计,最小化了PCB寄生电阻
系统效率高,36V-80V输入,系统效率均大于95.5%
支持光伏优化器MPPT应用,全面提升效率、降低系统损耗
当前,英诺赛科Topside cooling En-FCLGA 3.3X3.3封装系列的三款产品INN100EA035A、INN100EA050DAD和INN100EA070DAD 均已成功量产,批量订单实现交付。
三款产品关键参数如下表所示:
Key performance parameters at TJ = 25 °C
此外,英诺赛科100V P2P Drain down MOS 的En-FCLGA 5X6封装产品组合也即将重磅发布,电阻涵盖1.8~5mohm,敬请期待!
详细资料及样品申请:jiaxinhuang@innoscience.com (或直接与销售联系)