天眼查显示，武汉光至科技有限公司“一种温控炉结构及控制方法”专利公布，申请公布日为2025年3月14日，申请公布号为CN119617884A。
本发明提出了一种温控炉结构及控制方法，温控炉结构包括壳体，壳体内部呈中空设置，且两侧向外凸起，若干隔热件均设置在壳体内；晶体座设置在若干隔热件上，并晶体座的一侧开设有两端贯穿的凹槽；倍频晶体设置在凹槽内，壳体的两侧凸起处均开设有贯通至内部的透射孔，透射孔内设置有窗口片，压紧机构设置在晶体座远离隔热件的一侧；加热件设置在晶体座靠近隔热件的一侧；该结构确保了倍频晶体工作温度的稳定性，通过采集不同工作温度下的实时倍频功率数据，构建倍频功率与工作温度之间关系的目标模型，并基于目标模型通过遗传算法找到使倍频功率达到最优的工作温度，在外界条件恶劣或改变的情况下保证温控炉工作的稳定性和可靠性。
