Tower Semiconductor将亮相IMS 2025,重点展示射频代工技术最新创新成果

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以色列,米格达勒埃梅克,2025年6月3日——高价值模拟半导体解决方案代工厂商 Tower Semiconductor(纳斯达克股票代码:TSEM)今日宣布即将出席于2025年6月16日至21日在美国加利福尼亚州旧金山举行的国际微波研讨会(IMS 2025)。届时,Tower将重点展示其卓越的射频(RF)及高功率放大器(HPA)技术平台,以及在射频开关技术领域的最新进展。作为大会技术议程的重要组成部分,Tower Semiconductor将与pSemi联合发布题为《采用PCM射频开关与集成CMOS驱动器的0-110 GHz SPDT 开关》的白皮书,该论文已入围IMS 2025最佳产业论文奖评选。

本论文重点介绍了一项宽带单刀双掷(SPDT)开关技术,该技术采用Tower Semiconductor基于RFSOI CMOS工艺单片集成的相变材料(PCM)射频开关。其关键特性包括:超宽带性能(支持直流至110 GHz全频段,插入损耗低于2 dB);集成CMOS驱动器的数字控制,可兼容MIPI RFFE接口(PDK已提供);实测功率承载达30 dBm;线性度较现有的RFSOI CMOS SPDT开关提升15-20 dB。此项技术融合了超低损耗宽带性能、高功率承载及全CMOS/数字集成特性,大幅简化了终端用户的系统设计,为5G、未来6G、卫星通信、波束成形及毫米波应用提供了优秀的电路解决方案。

演讲议程

《采用PCM射频开关与集成CMOS驱动器的0-110 GHz SPDT 开关》

Nabil El-Hinnawy博士, 

首席研发工程师, Tower Semiconductor

本演讲是Th1B分论坛:创新射频开关、可变电容和调制器技术(完整议程详情请扫描下方二维码的一部分。

时间:

2025年6月19日,上午8点20分

地点:

205会议室

届时欢迎大家前往

#655 Tower Semiconductor展台

与我们的工程师现场交流。

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责编: 爱集微
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