台积电仍在评估是否在未来工艺节点中采用High-NA EUV光刻机

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全球最大的芯片代工制造商台积电高管表示,该公司仍在评估何时将ASML先进的高数值孔径(High-NA)光刻机应用于其未来的工艺节点。

芯片制造商正在权衡,这些价值近4亿美元的光刻机在速度和精度方面的优势,何时才能弥补其几乎翻倍的价格,而这台设备本身就是芯片制造厂中最昂贵的设备。

当被问及台积电是否计划将该光刻机用于即将推出的A14(1.4nm)以及未来节点的增强版时,台积电业务发展高级副总裁张晓强(Kevin Zhang)表示,公司尚未找到令人信服的理由。

张晓强表示:“我所说的A14增强版,即使不使用High-NA,其性能也非常显著。因此,我们的技术团队正在继续探索如何利用微缩优势来延长现有(Low-NA EUV光刻机)的使用寿命。只要他们继续找到办法,我们就不必使用它。”

去年,张晓强曾表示,台积电不会在其A16(1.6nm)节点上使用High-NA EUV光刻机,并补充说他不喜欢它的标价。

英特尔计划在其未来的制造工艺(即Intel 14A工艺)中使用High-NA EUV光刻机,以重振其代工芯片业务,并更好地与台积电竞争。不过,英特尔也表示,客户仍然可以选择使用更旧、更成熟的技术。

到目前为止,ASML已向全球三家客户(英特尔、台积电和三星)发货五台重达180吨的双层大小的High-NA光刻机。

ASML总裁兼首席执行官傅恪礼(Christophe Fouquet)表示,预计客户将在2026-2027年期间测试High-NA光刻机的大批量生产准备情况,然后在后期在其最先进的节点上评估该设备。

傅恪礼此前表示,AI仍带来强劲需求,过去几个季度中,AI是行业推动行业增长的核心驱动力,“2025年以及明年的部分需求已经稳定下来,基于与客户的沟通情况,我们预计2025年和2026年都将是增长年。然而,近期公布的关税政策加大了宏观环境的不确定性,目前尚无法量化评估关税政策的影响。综合关税及其他不确定因素,ASML仍预计全年毛利率将在51%-53%之间。”ASML确信,到2030年,预计全年净销售额在440亿~600亿欧元之间,毛利率介于56%~60%。

(校对/赵月)

责编: 李梅
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