欣奕华近日官方消息显示，I线和KrF、ArF光刻胶的开发，现在已经进行到评测阶段，预计在2024年初可以实现少量出货。之后为了加速半导体用的光刻胶事业的发展，考虑导入开发KrF、ArF使用的光刻机。
欣奕华于2013年成立，以北京为总部，由四个业务版块组成。其中，安徽省阜阳市的公司是以材料版块为主体。公司技术团队在2007年参加了中国实行的高科技材料开发国家“863计划”，并在2007年开始了彩色滤光片使用的光刻胶的开发。
据悉，阜阳欣奕华于2015年建成国内第一条年产达1000吨的平板显示用光刻胶生产线，并实现稳定量产。阜阳欣奕华显示光刻胶年出货量今年预计可达2500吨。
此外，该公司引进了日本半导体行业先进生产线，实现了半导体关键原材核心技术的引入和国产化。拥有数条在建半导体湿电子化学品产线。
欣奕华官方消息显示，半导体用的湿电子材料，包括CMP抛光液、切割液、激光保护液在开发中。CMP抛光液已经通过顾客端的测试认证，预计在2022年下半年导入生产设备，计划达到3200吨的年产能。（校对/小北）
